恒麗鑫提供一系列產(chǎn)品級拋光硅片：表面高平坦度，超級潔凈的高純度單晶硅拋光硅片，這些均為客戶定制化以達到不同客戶的品質(zhì)要求。復(fù)雜的化學(xué)機械拋光工序（CMP）能夠移除掉表面的缺陷，以及生產(chǎn)出超級平坦、類似鏡面的表面。CMP工藝在1962年被開發(fā)出來，直到今天仍是半導(dǎo)體的工業(yè)標(biāo)準。產(chǎn)品級硅片使用在一系列先進的集成電路產(chǎn)品里，是集成電路的最主要的原材料之一。
恒麗鑫提供150mm, 200mm, 300mm, 450mm等尺寸產(chǎn)品級硅片，型號、電阻率、晶向、厚度、顆粒度等皆可以根據(jù)客戶的要求來定制。
